九游会国际娱乐:纽势达获得半导体蚀刻后清洗设备专利提高清洗组织对半导体加工件的速度和洁净度
来源:九游会国际娱乐 发布时间:2025-10-06 12:35:52
金融界2025年8月7日音讯,国家知识产权局信息数据显现,江苏纽势达新材料配备有限公司获得一项名为“一种半导体蚀刻后清洗设备”的专利,授权公告号CN223185071U,请求日期为2024年09月。
专利摘要显现,本实用新型公开了一种半导体蚀刻后清洗设备,触及清洗设备技术领域,包含清洗组织和调理组织,所述清洗组织内部固定衔接有翻转组织,所述翻转组织上部装置有限位组织,所述清洗组织包含操作台和清洗供水管组件,所述操作台外表固定衔接有储水箱。本实用新型,经过步进电机带动一号同步轮进行滚动,再由同步带带动二号同步轮滚动,然后带动限位组织旁边面固定的半导体加工件进行翻转,经过二号同步轮带动工件进行翻转然后可以对工件各个面进行充沛的清洗,提高清洗组织对半导体加工件清洗的速度和洁净度。
天眼查资料显现,江苏纽势达新材料配备有限公司,成立于2023年,坐落淮安市,是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。经过天眼查大数据分析,江苏纽势达新材料配备有限公司共对外出资了1家企业,参加招投标项目2次,专利信息4条,此外企业还具有行政许可4个。
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